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华微电子(香港)有限公司

Unique Microelectronics (Hongkong)Limited

详细说明

CMP Tribo

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  • 产品说明

应用:适用于薄膜、器件层和覆盖层沉积的CMP(典型SiO2)主要特点:

适用于4寸及以下样品尺寸,纳米级化学机械抛光

可同时处理2片4英寸样品

桌面式设计,减少占地面积,防腐蚀设计

工艺参数监控,对负载、摩擦系数和抛光垫磨损进行分析

多路供液

PLC控制,可通过主盘得电流图来凸显小范围得工艺变化,识别任何EPD发生


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