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SI591
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广泛应用于 III-V 化合物、聚合物、金属和硅刻蚀工艺， 对于采用氟基和氯基气体工艺具有很高的稳定性和重复性 配置预真空室，带有取放机械手，绝缘冷却和加热电极 （-25℃-80℃） 可选干涉式终点检测和刻蚀深度测量系统，可处理 8 寸 晶圆片 配置灵活，可选在线椭偏仪测量，PE 电极，加气路， Cassette 到 Cassette 操作方式，外部反应腔加热等 |
